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483 个结果
  • 简介:目标测试参考答案(一)一元二次方程一、填空:1、ax2+bx+c=0,a≠0,x=-b±b2-4ac2a(b2-4ac≥0);2、b-a,0,x1=0,x2=a-b;3、p=-1,x2=-2;4、(1)x1=x2=0,(2)x1=1+2,x2=1-2...

  • 标签: 二次方 函数的图象 根的判别式 二次函数 一次函数 韦达定理
  • 简介:TN2596042537Brillouin光纤应变传感中的参数理论计算=TheoreticalcalculationoftheparametersinBrillouinfibrestrainsensing[刊,中]/黄民双,陈伟民,黄尚廉(重庆大学光电技术及系统开放实验室.四川,重庆(630044)),王新强(重庆大学物理系.四川,重庆)∥光通信技术.—1996,20(1).—39—44,53

  • 标签: 重庆大学 光纤拉伸应变 光纤应变传感 参数 开放实验室 光通信技术
  • 简介:O484.599042623用喇曼散射光谱估算纳米Ge晶粒平均尺寸=Estimationofcrystal—sizeofnano—GebyRamanscatteringspectra[刊,中]/王印月,郑树凯,杨映虎,郭永平(兰州大学物理系.甘肃,兰州(730000)),奇莉,甘润今(北京机械工业学院基础部.北京(100085))//光学学报.—1998,18(9).—1265—1268用射频共溅射技术和真空退火方法制备了埋入SiO2基底中的纳米Ge复合膜(nc—Ge/SiO2。测量了不同温度退火后该复合膜的喇曼散射光谱,其结果与晶体Ge的喇曼谱相比,纳米Ge的喇曼峰位红移峰形变宽;用喇曼谱的参数计算了纳米Ge晶粒的平均尺寸。所得

  • 标签: 喇曼散射光谱 纳米 复合膜 平均尺寸 射频共溅射 不同温度
  • 简介:随着表面科学和材料科学与工程的发展,近几十年来表面工程摩擦学获得了迅速发展,表面工程摩擦学领域所获得的大量研究成果不仅促进和丰富了摩擦学的基础研究,而且为开发工业和高新技术发展所必需的具有高强度、高耐磨性和高抗腐蚀性的摩擦学材料提供了重要的指南。研究PBX表面摩擦性能测试方法,可以为新型PBX的研制开发和库存科学技术研究提供技术支撑。PBX表面摩擦性能的测试与研究尚未系统开展,为此,初步研究了PBX动、静摩擦系数的测试方法。

  • 标签: 性能测试方法 PBX 摩擦学 材料科学与工程 表面摩擦性能 高新技术发展
  • 简介:TH70397063908光学元件的疵病检验与研究现状=Presentsituationofimperfectionstestingandresearchingontheopticalcomponents[刊,中]/戴名奎,徐德衍(中科院上海光机研究所.上海(201800))∥光学仪器.—1996,18(3).—33—36

  • 标签: 研究现状 光学元件 光学仪器 疵病 当今世界 中科院
  • 简介:O484.52003053772厚度具有线性变化的吸收平板或膜层的非相干透射率和反射率=Incoherenttransmissivityandreflectivityofanabsorbingplaneplateorlayerwithlinearvariationsinthickness[刊,中]/钟迪生(辽宁大学物理系.辽宁,沈阳(110036))//应用光学.-2002,23(1).-40-43计算了垂直入射下厚度具有线性变化的吸收平板样品的非相干透射率和反射率(正面和反面),给出了直接确定无基底样品以及透明基底上薄膜能量(强度)系数的精确表达式。图3参3(郑锦玉)

  • 标签: 反射率 透射率 多层膜 周期厚度 线性变化 非相干
  • 简介:O484.52000031969TiO2薄膜厚度及其光学常数的测量=DeterminationofthicknessandopticalconstantsofTiO2film[刊,中]/王德育,袁春伟(东南大学分子与生物分子电子学实验室.江苏,南京(210096))//东南大学学报.—1999,29(5).—105-108描述了非线性回归模型在TiO2薄膜的光学常数及其厚度测量中的应用。利用薄膜在可见光范围内的光谱

  • 标签: 光学常数 非线性回归模型 薄膜厚度 光学薄膜 生物分子电子学 厚度测量
  • 简介:O484.52001053428光谱求解极化聚合物薄膜的光电系数=Calcldationofelectro-coefficientsofpoledpolymerfilmsusingspectralmethod[刊,中]/孟凡青,马常宝,张光辉,吕孟凯,袁多荣,房昌水,许东(山东大学晶体材料国家重点实验室.山东,济南(250100)),任诠(山东大学光电子信息与工程系。山东,济南(250100))//半导体光电.—2000,21(6).—402-404,409

  • 标签: 光学薄膜 国家重点实验室 极化聚合物薄膜 半导体 山东大学 光电系数
  • 简介:TH70396021316激光圆偏振镜相移参数的测量=PhaseretardationmeasurementofCO2lasercircularpolarizer[刊,中]/周凤晴,李晓平,陈清明(华中理工大学激光技术国家重点实验室。湖北,武汉(430047))∥激光技术。—1995,19(4)。—193—196CO2激光圆偏振镜是CO2激光器在工业加工中的重要光学元件,本文描述一种测量这种光学元件相

  • 标签: 激光技术 圆偏振镜 光学元件 激光器 测量原理 国家重点实验室
  • 简介:O484.52003021238硅(001)衬底上生长的ZnO薄膜的AFM研究=AFMstudyofZnOthinfilmsonSi(001)substrates[刊,中]/章建隽(浙江大学信息科学与电子工程系.浙江,杭州(310028)),杨爱龄//电子显微学报.—2002,21(1).—39-42对采用电子束反应蒸镀方法低温下在硅(001)衬底上外延生长的ZnO薄膜的表面构像进行了原子力显微镜(AFM)观察,分析研究了不同的衬底温度对薄膜表面形貌及结构特性的影响。在250℃衬底温度下获得的ZnO

  • 标签: 电子束反应蒸镀 衬底温度 原子力显微镜 薄膜晶体管 电子显微学报 表面形貌
  • 简介:本文提出了一种确定重复性建设项目关键路线的新方法。借助约束线,首先给出了工序间存在各种约束条件(时间和距离约束)下潜在关键点的确定方法;为处理大规模项目,进一步提出了与图示法相对应的数值算法。以此为基础,提出了确定关键工序和关键路线的具体步骤,并定义和分析了三种不同类型的关键工序。与现有的方法相比,本文提出的确定关键路线的方法更为准确,适用性更强,而且有利于调度优化目标的实现。

  • 标签: 项目管理 关键路线 约束 潜在关键点 重复性项目