学科分类
/ 9
173 个结果
  • 简介:采用X射线衍射(XRD)与X射线光电子能谱(XPS)研究黄铜矿在中度菌浸出过程中的表面产物变化。结果表明,在A.caldus,S.thermosulfidooxidans与L.ferriphilum浸出过程中,一硫化物(CuS)、二硫化物(S2-2)、元素硫(S0)、多硫化物(S2-n)与硫酸盐(SO2-4)是黄铜矿表面的主要产物。在A.caldus浸出黄铜矿过程速率较慢,这主要是由于黄铜矿的不完全溶解产生多硫化物,限制了进一步的溶解。在S.thermosulfidooxidans与L.ferriphilum浸出黄铜矿过程中,多硫化物与黄钾铁矾是钝化膜的主要成分。元素硫不是导致黄铜矿生物冶金过程钝化的主要物质。

  • 标签: 黄铜矿 表面产物 生物浸出 钝化 中度嗜热微生物
  • 简介:为了确定浸矿菌耐氟的机制,在氟化物存在的条件下,驯化铀矿浸出菌酸氧化亚铁硫杆菌ATCC23270,研究溶液中含不同氟浓度、不同pH值时铀矿浸出菌的活性变化,以及有无蛋白酶K处理时铀矿浸出菌细胞内氟浓度的变化情况。采用铂电极和Ag/AgCl参比电极测量氧化还原电位,以作为细菌不同活性的参照指标,采用氟离子选择性电极测定细胞内的氟浓度。结果表明,真正影响铀矿浸出菌活性的是HF,溶液pH值增加以及溶液中与氟有较强络合能力的离子浓度的变化,也会引起耐氟菌假象的出现。浸矿菌的耐氟能力可能与细胞壁和细胞膜上的一些蛋白密切相关。

  • 标签: 氟毒性 生物浸出 铀矿 嗜酸氧化亚铁硫杆菌
  • 简介:AnomalousLeakageCurrentinSilicon0xynitrideThinFilmsGrownbyMicrowaveExcitedNitrogenPlasmaNitridation.Applicationoftheexplosivemethodforcreatingnitrogenlayers;Brightplasmanitridingofferriticsteelwithseveralalloyingelements;Cleaningasthemostimportantsteptowardssuccessfulheattreatment

  • 标签: 渗氮工艺 氧氮化硅 薄膜生长 微波激励等离子体氮化
  • 简介:

  • 标签:
  • 简介:[篇名]ActivatedMigrationSintering,[篇名]Activationofsteelsurfacesbyoxynitriding,[篇名]Activescreenplasmanitridingtechnology,[篇名]AdvancedPlasmaNitridingforAluminumandAluminumAlloys,[篇名]Ananti-corrosionandwear-resistingcompoundingnitridedlayeronprecisepressedpartsofsoftsteels,[篇名]Anexperimentalstudytocorrelatewaterjetimpingementerosionresistanceandpropertiesofmetallicmaterialsandcoatings,[篇名]AnInfluenceofSonBombardingontheEffectsofNitridinginD.C.GlowDischargePlasma。

  • 标签: 渗氮 等离子体 磨损抗性 低碳钢 腐蚀防护
  • 简介:

  • 标签:
  • 简介:对一种用于酸性氧化亚铁硫杆菌液氮冷藏新型保护剂GP的保藏效果进行研究。依据最大细胞复苏率及最高亚铁氧化活性确定该新型保护剂的最佳使用浓度。结果表明,保护剂的最佳浓度为30%,在此浓度下细胞复苏率达到84.4%,且能在120h内完全氧化培养基中的亚铁,培养6d后菌体浓度达到5.8×107cell/mL。此外,解冻细胞在9K培养基中培养6d后,对活细胞复苏的最佳GP残留浓度为0.6%(体积分数)。在此浓度下,菌株DC完全氧化亚铁需要108h,并且最终菌体浓度为6.8×107cell/mL.因此,GP是一种简单、有效的酸性氧化亚铁硫杆菌液氮保藏的冷冻保护剂。

  • 标签: 嗜酸性氧化亚铁硫杆菌 冷冻保护剂 液氮保藏 保藏效率
  • 简介:CharacteristicsofsiliconoxynitridesmadebyECRplasmas;CharacterizationandcomparisonofPECVDsiliconnitrideandsiliconoxynitridedielectricforMIMcapacitors;CharacterizationofsiliconoxynitridethinfilmsdepositedbyECR-PECVD;Characterizationofsiliconoxynitridesandhigh-kdielectricmaterialsbyangle-resolvedX-rayphotoelectronspectroscopy

  • 标签: 氧氮共渗 氮氧化硅 ECR等离子体 薄膜沉降
  • 简介:[篇名]3-inchfull-colorOLEDdisplayusingaplasticsubstrate,[篇名]AsignificantimprovementinmemoryretentionofMFISstructurefor1T-typeferroelectricmemorybyrapidthermalannealing,[篇名]Accuratereliabilityevaluationofnon-uniformultrathinoxynitridcandhigh-klayers,[篇名]Advancedgatedielectricmaterialsforsub-100nmCMOS,[篇名]AINfilmscpitaxialyformedbydirectnitridationofsapphireusingaluminumoxynitridcasabufferlayer,[篇名]Amorphoussilicon-oxynitridcsubmicronfibres,[篇名]CharacteristicsofCr-Al-N-Othinfilmspreparedbypulsedlaserdeposition.

  • 标签: 氧氮共渗 腐蚀防护 塑性基 压电记忆材料 热退火处理
  • 简介:Characterisationandapplicationoftitaniumcarbonitride-basedcuttingtools;Compositeceramicsandcoatingsfortribotechnicalapplication;Crystallizationofpolymer-derivedsiliconcarbonitrideat1873Kundernitrogenoverpressure;1Effectofcoolingconditionsonplasma-carbonitridedironsurfaces

  • 标签: 碳氮共渗 钛合金 再结晶 温度控制
  • 简介:SY509-3-64[篇名]DegradationandSILCeffectsofRPECVDsub-2.0nmoxide/nitrideandoxynitridedielectricsunderconstantcurrentstress;SY509-3-65[篇名]EffectofMicrostructuralVariablesontheErosionofSiliconNitrideCeramics……

  • 标签: 氧氮共渗工艺 SILC 硅材料 恒流压力 等离子体
  • 简介:[篇名]Astudyonfrictionandwearbehaviourofcarburized,carbonitridedandboridedAISI1020and5115steels,[篇名]AlloyCarburizationatTemperaturesof1,200-2,100F(650-1,150℃),[篇名]Amorphoussiliconcarbonitridefibersdrawnfromalkoxidemodifiedceraser,[篇名]Bearingswithincrcasedreliability,[篇名]Brightoutlookforhardcoatings,[篇名]Carbonitridccoatingbylow-temperaturediffusionprocess,[篇名]Carbonitridcnanomaterials,thinfilms,andsolids.

  • 标签: 碳氮共渗 腐蚀防护 低温处理 磨损性质