简介：俗话说：“工欲善其事，必先利其器”。产品的数量、质量和成本在很大的程度上是受生产设备的技术状况的制约。为此，笔者就如何选择轧花厂加工机械设备与同行们共同探讨。一、生产性：指的是设备生产效率。随着社会的发展和科学技术的提高，人们对生产效率的追求也越来越高，就棉花加工业来讲，由过去单机皮棉台时产量400至500公斤，提高到现在的1200至1500公斤，是原来的3倍。这是由于从“八五”期间我国的棉花加工机械设备……

简介：保护地球环境是21世纪最优先考虑的课题。在机械加工领域，一些保护环境措施的研究开发及其成果已得到广泛应用。其中，对节约能源和减少废物的主要加工方式，即于式、半干式切削加工技术的研究，正在加速进行。在铣削加工、齿轮的切齿加工等方面已实用化，并取得令人满意的效果。除费用和刀具寿命之外，影响选用干切削的另一个因素是工件。有时，切削液可能弄脏零件或产生污染。

简介：<正>《服装加工设备》是电视中等专业学校服装专业的专业基础课程之一,全书分为:绪论、裁剪设备、缝纫设备及熨烫设备四个部分。因在服装厂中,缝纫设备所占的比重最大,是本课程教学的重点。根据服装专业的培养目标,主要是培养从事服装设计与缝制工艺的中等专业人才,并非是服装机械设备修理的专业人员,所以本教材在教学中应从实际出发,除了课堂教学外,还需加强职业技能的训练和应用能力的培养,在讲述各类设备的用途、性能、结构、原理、操作作用方法和一般维修保养知识时,要注意坚持启发性的原则,做到循序渐进,由浅入深,由易到难,不需要作过多过深的阐述,也不要求掌握较高难的修理技术。

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简介：TQ171.68497010634超精密光学抛光研究的进展及其发展趋势=Developmentandfeatureofultraprecisionopticalpolishing[刊,中]/滕霖,任敬心(西北工业大学.陕西,西安(710072))∥航空精密制造技术.—1996,32(3).—5—9综述了对精密光学抛光影响精度和质量的因素,对重要因素目前的研究进展进行了分析;介绍了新型

简介：O72395021325磨抛工艺中HgCdTe晶片的表面损伤=SurfacedamageofHgCdTewafersinlappingandpolishing[刊,中]/姚英,蔡毅,欧明娣,梁宏林,朱惜辰(昆明物理所.云南,昆明(650223))//红外技术.—1994,16(5).—15—20用X射线反射形貌术研究了磨抛工艺在用Te溶剂法和布里奇曼法生长的碲镉汞晶片表面引入的

简介：介绍了大钢热连轧厂R2轧机底平面修复方案的确定和专用机床的设计以及修复效果，从而得出在线加工为大型设备修复的重要手段的结论。

简介：TN30597010636大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测-等离子发射光谱法=Insitumonitoringetchprocessandend-pointforLSIbytheplasmaemis-

简介：TN30595021329相移掩模的计算机模拟方法研究[学,中]/沈锋;中科院光电技术研究所.—62页.—1994.6研究了亚微米微细光刻技术的一个热门领域—相移掩模提高分辨率.从Hopkins理论出发,导出了一般情况下的二维物体的部分相干成像的简化强度

简介：针对离轴TMA结构空间相机中使用的两块离轴非球面反射镜的加工过程,提出了一种新型的矩形轴非球面的最接近球面半径的求解及其优化方法,并且开发了基于计算机虚拟加工技术的CC()S工艺参数计算方法。被加工工件分别为165mm义100mm的矩形凸面

简介：1.板栗剥壳取仁加工成套设备由中国农机研究院收获加工机械研究所研制。该设备包括分级机组、热处理机组、硬皮处理机组、剥壳去衣及壳仁分离机组、红衣处理机组、辅助设备、输送系统、电器控制系统等。整套设备全部采用集中电气控制,具有故障停机、故障报警联锁、过载保护、工作计时等功能,控制柜面板上设有全套设

简介：论述了离子束曝光技术的原理、特点,分析了其面临的关键技术问题,如掩模技术、离子源技术、图像对准技术等,并介绍了这些年来国外的一些研究机构及公司在离子束曝光技术上的研究进展及

简介：成型材料都需要进货设备，其进货包装一般都是使用纸袋。目前进货设备己发展到包括纸袋在内的自动仓库。自动仓库是指从检查材料的库存量、安排订货、到将所需的材料送到成型机械生产线上等步骤，全面实现自动化，其设备费很高，特别是成型品品种多、少量生产时，就有必要权衡利弊。

简介：TN305.72002032298光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量=Opticalproximitycorrectionforimprovingpatternqualityinsubmicronphotolithography[刊,中]/石瑞英(四川大学物理系.四川,成都(610064)),郭永康(中科院微电子中心.北京(100010))//半导体技术.-2001,26(3).-20-26论述了近年来光学邻近校正技术的进展,讨论了各种行之有效的改善光刻图形质量的校正方法,并分析了邻近效应校正在未来光刻技术中的地位和作用。图8表1参14(李瑞琴)TN305.72002032299光刻技术在微细加工中的应用=Applicationoflithographytechnologytomicroelectronicmanufacturing[刊,中]/刘建海(上海先进半导体制造有限