简介:在块煤固定层造气炉内,炉箅的结构及其运动控制着气化火层的高度和厚度,也就是控制着气化火层的总体积。气化反应是在气化火层里进行的,而不是像流化碎煤床和气流粉煤床那样在造气炉的全容积里进行的,其气化火层通过炉箅结构及其运动控制气化剂进,煤焦进,煤气出,灰渣出。由于高温炭的气化反应非常迅速,所以气化火层非常靠近炉箅,可以这么说,炉箅在什么地方气化火层就应在什么地方,炉箅多大,气化火层就有可能多大。当然,炉箅的大小和炉膛内径必须是相适应的,气化剂和煤焦的输入量自然也是和炉膛横截面积相适应的,这些适应程度通常已是正规设计了的。但炉箅及其运动是各厂自己选择并操作控制的,所以各厂造气炉的单产、单耗水平,除因原料不同要影响气化反应速度,后系统工艺路线不同要求气柜里煤气品质不一,气柜充气压力不等也影响气化反应速率外,所选购的炉箅结构和炉箅在炉内的运动状态所控制的物料进出状态,是造气炉内气化反应最重要的影响因素。
简介:1超高纯水溶性胶体二氧化硅一半导体生产中,用作化学机械抛光(CMP)的抛光剂日本Fusochemical公司开发成功一种水溶性超高纯胶体二氧化硅.其二氧化硅含量较现有产品高出3倍。到目前为止.水溶性胶体二氧化硅的最高含量12%.该公司通过优化溶胶凝胶合成工艺.使其二氧化硅含量高达40%。该公司合成的超高纯胶体二氧化硅占有世界硅片抛光剂市场份额的80%。