简介:国际半导体工艺指南(ITRS)的组织者们,迄今仍主要关注SiCMOS器件,但也在考虑非数字、非Si器件的应用,例如,无线通信。就数字电路来说,HRS的组织者们也不得不寻找Si以外的材料,在ITRS的最新版(2005年版)中,有这样的评论:随着本“指南”接近末期,器件将按准弹道模式工作,其电流增益将按与目前所知不同的参数得以增强,实际上碳纳米管、纳米线和其它高输运沟道材料(例如,Ge、Si衬底上的Ⅲ-Ⅴ族化合物薄膜沟道)是需要的。这一陈述是记载在“长期指南(2014-2020年)”部分。“准弹道”意味着载流子平均自由程和驰豫时间达到器件特征尺寸量级和工作频率量级。同时需建立新的电荷输运物理模型。
简介:以廉价的工业级高模数比硅酸钠(Na2O·3.3SiO2)为硅源,以溴化十六烷基三甲基铵(CTAB)为模板剂,通过添加有机胺进行二次水热后处理,制备了掺杂V的介孔硅基分子筛。采用了XRD、SEM和低温液氮吸附脱附分析进行表征。实验结果表明,在不同的有机胺溶液和后处理温度下,样品的扩孔效果差异显著,其中,以三乙胺(TEA)和N-N二甲基十二烷基胺(DMDA)在高温水热处理下的扩孔效果最优。TEA的加入能调变V-MCM-41分子筛的孔径从3.94nm扩孔到9.30nm,增加2.36倍,而DMDA的加入能将孔径从3.94nm扩孔到6.62nm,增加68%。