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《印制电路信息》
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1995年12期
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铜箔表面处理工艺
铜箔表面处理工艺
(整期优先)网络出版时间:1995-12-22
作者:
乔楠
电子电信
>微电子学与固体电子学
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资料简介
概述了在铜箔表面上形成Si,Zr,Ti的氧化物或氢氧化物膜层的铜箔表面处理工艺,可以获得粗化的铜箔表面,进而提高了覆铜箔板的剥离强度和焊接耐热性。
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概述了在铜箔表面上形成Si,Zr,Ti的氧化物或氢氧化物膜层的铜箔表面处理工艺,可以获得粗化的铜箔表面,进而提高了覆铜箔板的剥离强度和焊接耐热性。
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