O48496042583快速热氮化SiO_xNg薄介质膜的电荷特性与光学性质=ChargecharacteristicsandopticalpropertiesofrapidthermalnitrideSiO_xNythindielectricfilm[刊,中]/陈蒲生,岑洁儒(华南理工大学应用物理系.广东,广州(510641)),董长江(中科院表面物理实验室.北京(100080))∥半导体学报.—
中国光学
1996年4期
