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薄膜光学理论

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摘要 O48496042583快速热氮化SiO_xNg薄介质膜的电荷特性与光学性质=ChargecharacteristicsandopticalpropertiesofrapidthermalnitrideSiO_xNythindielectricfilm[刊,中]/陈蒲生,岑洁儒(华南理工大学应用物理系.广东,广州(510641)),董长江(中科院表面物理实验室.北京(100080))∥半导体学报.—

DOI 5jox6wgnjv/1058536

作者

机构地区不详

出处《中国光学》 1996年4期

关键词光学性质聚合物薄膜电荷特性半导体快速热氮化中科院

分类 [理学][物理]

出版日期 1996年04月14日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）