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简介：摘要对不同栽培方式对冬作马铃薯生长与产量的影响，探索适合铃薯冬作栽培的品种类型与栽培方式，为冬作马铃薯高产高效栽培提供科学依据。以青薯9号、茯苓和合作88为试验材料，采用起垄覆黑膜栽培、起垄覆白膜栽培和常规栽培方法，研究不同马铃薯品种类型冬作产量表现和不同栽培方式的保温效果及对植株生长的影响。结果表明，覆膜栽培具有增温效应，其增温效果依次为起垄覆白膜＞起垄覆黑膜＞常规栽培。青薯9号平均产量最高，为1706．43kg/667m2，其次是合作88，产量为1567．80kg/667m2，茯苓产量最低，为768．56kg/667m2。茯苓虫害率最高，达到90%，商品率最低，为55．41%。合作88虫害率为10．57%，商品率为85．24%。青薯9号虫害率最低，为2．33%，商品率为84．94%。覆膜栽培能起到增温保湿、提前出苗的作用；中熟和中晚熟品种产量和商品率高，虫害发生轻，经济效益好。

简介：近几年,南瓜间作甜玉米覆膜滴灌栽培模式充分利用了温光和土地的空闲时间,南瓜亩产可达2000~3000kg,甜玉米3500穗,玉米秸秆还可做青贮饲料出售,增产增收潜力大,目前已在伊犁河谷大面积推广。1精细整地,施足底肥播前每亩撒施充分腐熟的农家肥3000kg,将黄腐酸钾50kg、硫酸锌500g、氯化钾5kg、磷肥50kg充分混匀后撒施,深耕耙田,达到深、细、透、平、实、足。2选用良种,规范种植玉米品种选用穗甜1号,南瓜选用抗病、肉质细腻、微甜、在当地销路好的蜜本南瓜。

简介：摘要为探讨覆膜支架腔内修复术后抗生素使用的合理性，本研究将接受覆膜支架腔内修复术后炎症指标异常的患者（体温≥38℃、白细胞≥10×109/L或C反应蛋白>8mg/L）随机分为两组，实验组患者术后使用抗生素，对照组患者术后未使用抗生素，观察并比较两组术后炎症指标的变化。结果发现实验组与对照组间各指标之间的差异无有统计学意义（P>0.05）。因此腔内修复术后患者体温、白细胞计数以及C反应蛋白的升高不是由感染引起的，而是由系统炎症导致，因此术后常规抗生素的使用可能是不合理的，研究结论有待进一步大样本研究证实。

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简介：摘要目的分析覆膜支架植入术治疗StanfordB型主动脉夹层的近期疗效。方法抽取承德市中心医院2010年6月至2018年6月接收并行主动脉腔内修复术（TEVAR）的StanfordB型主动脉夹层患者72例，根据发病到行TEVAR的时间将其划分为三个组别，即急性期组，亚急性期组、慢性期组，对比三组治疗后的效果。结果急性期组、亚急性期组平均住院时间均短于慢性期组（P＜0.05）；三组技术成功率对比无统计学意义（P＞0.05）；急性期组、亚急性期组最大假腔直径小于慢性期组（P＜0.05），而最小真腔直径大于慢性期组（P＜0.05）。结论不同时期采用覆膜支架植入术治疗StanfordB型主动脉夹层的近期疗效相当，但在急性期和亚急性期更有优势。

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简介：摘要高尔基说过“谁爱学生，学生就爱他，只有爱学生的人，他才可以教育学生。”爱是教育的基础，没有爱心就没有育心，没有情的滋润和没有和谐的人际心理氛围，就没有教育的成功。”巴特尔也曾说过“教师的爱是滴滴甘露，即使枯萎的心灵也能苏醒；教师的爱是融融春风，即使冰冻了的感情也会消融。”“爱在老师细微地观察中，在老师细致地呵护中，在老师细心地引导……”

简介：摘要目的分析胸腹主动脉夹层覆膜支架植入术围术期应用全程护理干预的价值。方法选取我科2016年5月—2018年12月收治的主动脉夹层患者40例，随机分为研究组和对照组，各20例，对照组实施常规护理，研究组实施全程护理，比较护理后的效果。结果研究组卧床、住院时间和并发症发生率少于对照组（P＜0.05）；研究组SF-36评分均高于对照组，两组差异显著（P＜0.05）。结论胸腹主动脉夹层覆膜支架植入术围术期应用全程护理干预效果明显，术后并发症少，可促进患者恢复，值得临床推广。

简介：当前我国经济建设在不断发展，但在这一过程中也出现了较为严重的环境问题，且环境保护与经济建设矛盾十分突出，因此，要重视生态环境建设与保护。营林工作一方面能够推动我国林业发展；另一方面也能起到改善生态环境的作用，因此，受到了人们的重视。营林造林中的播种育苗技术得到了较为广泛地应用，其作用也十分明显。

简介：摘要 ：当前我国经济建设在不断发展，但在这一过程中也出现了较为严重的环境问题，且环境保护与经济建设矛盾十分突出，因此，要重视生态环境建设与保护。营林工作一方面能够推动我国林业发展；另一方面也能起到改善生态环境的作用，因此，受到了人们的重视。营林造林中的播种育苗技术得到了较为广泛地应用，其作用也十分明显。

简介：摘要随着社会的不断发展，电子产品涂覆工艺迎来了新的发展机遇，被广泛应用于各个行业当中。为此本文将从电子产品涂覆工艺与涂覆效果影响因素两个方面分析涂覆工艺，并详细探讨其中的影响因素，旨在促进我国电子产品涂覆工艺技术的发展。