简介：摘要：伴随着摩尔定律的发展，集成电路（以下简称IC）的发展经历了从小规模集成电路(SSI)、中规模集成电路（MSI）、大规模集成电路（LSI）、甚大规模集成电路（VLSI） 直至今天的超大规模集成电路（ULSI）、巨大规模集成电路（GSI）。根据国际半导体技术路线图（ITRS）的规定，集成电路工艺水平是通过技术节点来衡量。技术节点通常以晶体管的半节距 （half-pitch） 或栅极长度（gatelength）等特征尺寸（CD，critical dimension）来表示 。在进入 ULSI 时代以后，横向空间的饱和，促使 IC 制造向垂直空间发展；向垂直空间发展的思路促使多层金属互连技术的出现。而多层金属互连技术的出现导致 IC 制造过程中不可避免的在层与层之间产生台阶，层数越多表面起伏愈加明显。明显的表面起伏主要有两方面的影响产生，一方面金属布线中容易导致断线、短路、断路，另一方面导致光刻时对线宽失去控制。

简介：摘要在科技发展的推动下，我国集成电路制造技术也进入了一个全新的发展阶段，不断的提升了晶圆直径，不断缩小了特征线宽，进而将更高的要求抛向了全局平坦和局部的平坦，因此，为了有效额解决这样的问题，将机械抛光机技术应用到其中是非常必要的。

简介：摘要：

简介：摘要：为了改善铍青铜试样表面的抛光效果，解决传统机械抛光划痕深浅不一问题，我们研制了一种全新的抛光工艺——电解抛光。电解抛光工艺与溶液浓度、时间、电压等参数密切相关，合理控制与这些工艺参数才能达到理想的抛光效果。

简介：摘要：本文全面探讨了石英晶片抛光工艺的关键要点，包括抛光前的质量要求、抛光工艺流程、抛光所用材料与设备，以及抛光参数的选择与控制。通过分析抛光过程中遇到的常见问题及其解决策略，旨在为实现石英晶片的高效和高质量抛光提供理论指导和实践参考。通过精细控制抛光参数和优化抛光过程，可以有效提高晶片的表面平整度和减少表面粗糙度，从而满足半导体、光电通讯、精密仪器等领域对高质量石英晶片的需求。

简介：摘要：电化学抛光技术在铝合金表面处理中具有广泛的应用前景。本研究旨在探讨电化学抛光技术在改善铝合金表面质量和性能方面的潜力。通过详细的实验和分析，本研究发现电化学抛光能够显著提高铝合金表面的光洁度和平整度，降低表面粗糙度，增加抗腐蚀性能，并提高涂层附着力。此外，该技术还可以实现铝合金表面的微纳加工，为微电子和光电子器件的制备提供了有力支持。

简介：

简介：摘要：工件自动抛光机，由圆台面式自动抛光设备和四周流水式自动抛光设备二种，分别适合平面式或外凸的单一平面小零件的抛光和多平面零件的抛光。由基座及设置在基座上的抛光装置组成，多组电机及相应的抛光轮、工件夹具、转盘、机台、电机、底座组成。可设置多组抛光轮，按工步设计，工件在转盘转动后达到各工步的抛光，运转一周完成工件各工步的抛光，员工只要上、下工件即可。具有操作方便、省时、有效提高抛光质量且可满足大批量抛光需求等特点。

简介：摘要：随着综合国力的提高，产业的快速发展，我国新能源产销量、保有量已跃居世界首位，并且持续高速增长态势明显。然而，随着电动保有量的增加，运行安全问题也不断凸显。截至2022年6月底，全国新能源保有量突破千万，占总量的3.23%。然而，因起火风险召回的新能源数量居高不下，其中2022年召回车辆6万辆以上。上述新能源召回情况反映出目前相关检测技术有待改进。因此，为促进电动行业健康发展，保障乘车人员的生命安全，新能源全寿命周期内的运行安全问题是亟待解决的技术难题。

简介：【摘要】随着科技水平的进步，社会生产力的发展，机械产品体现出精密化的特点。产品设备的精密化对机械零件质量有了更高的要求，比如零件表面质量和功能性边缘的精度要求、加工稳定性要求等，在这些严格化的要求下，传统零件加工工艺不再适应。作为机械制造业的重要一环，精密零件的精加工需要集中的劳动力，这部分的控制工作十分困难。一般情况下，生产制造的所有成本中，单加工费用就占到了15%的比例，加工过程中去毛刺、抛光等存在的现实问题，成为生产全自动化发展进步的阻碍。行业内研究人员针对精密机械零件加工进行了深入研究，同时借鉴国外对机械零件表面处理的新工艺方法，形成了适合我国机械制造需求的新加工工艺。基于此，本文便结合实际，对精密机械零件去毛刺、抛光加工两方面的工艺应用展开分析。

简介：摘要：随着我国核电技术不断发展，人们对降低核电厂员工辐照含量关注度日益增加。在核电设备中应用电解抛光技术，可以极大的减少再循环管道内放射物积聚的表面积，同时不影响材料性能，该工艺至少能减少再循环系统管道的放射物积聚达2-3倍。因此本文对电解抛光技术进行了深入的探讨，以供参阅。

简介：摘要抛光机是当前广泛应用于木材加工、家具制作、大米加工等诸多行业的一种工业设备器械，其在上述工业生产过程中能够有效实现机械式的研磨、抛光、打蜡等诸多工艺流程，对提高上述行业的生产效率、稳定上述行业的生产质量等均有非常积极的作用。本文将以大米抛光机为对象，针对大米抛光加工过程中所应用到的抛光机进行新的设计与研发，从而开发出立式双辊抛光机并将其应用在大米抛光加工过程中，对立式双辊抛光机的构成特点以及操作要点等进行全面分析和总结。

简介：摘要在各种研磨工艺参数相同的情况下，抛光机在改造前后的去除率差别不大，但改造后抛光机对工件加工的表面粗糙度明显优于改造前的。研究结果表明该设备的改造设计，可以较低的成本加工出高精密度的产品，极大地满足了生产与科研的需要。本文在对自动半导体抛光机的工作原理进行分析，并提出了一些改进及设思。

简介：摘 要：针对目前岩石矿物含量测定存在的测定对象的代表性不足及人为影响较大的问题，特别是中粗粒岩石矿物含量测定主要依靠目估法进行测定的问题，提出采用基于岩石抛光面岩石图像作为矿物含量测定对象，采用毫米网格法，计算出各矿物所占面积百分比。从而确定矿物的含量。使用这一方法测定的矿物含量准确，测定结果重复性好，且基本不受人为影响。完全可以取代目前常用的针对中粗颗粒的岩石矿物含量测定采用的目估法。该方法在确保测量结果准确的同时更易学习和掌握，且操作简单。是矿物颗粒粒径大于2mm的岩石或含有矿物颗粒粒径大于2mm的斑状或似斑状结构岩石矿物含量测定不可或缺的一种方法。

简介：摘要半导体单晶抛光片是当前一种十分重要的材料，对于大规模集成电路和半导体器件的应用有着巨大的作用。本文主要以硅、砷化镓、锗等半导体单晶抛光片为例，对其清洗工艺和清洗机理进行了研究。具体来说，先采用氧化性的溶液在抛光片表面产生氧化膜，然后再将形成的氧化膜去除，从而实现抛光片表面杂质和污染物的清除。

简介：摘 要：伴随着科学技术的迅猛发展，国家的经济建设也在不断地加速，各行各业都在向着多样化的发展。在国民经济中占有重要地位的稀土抛光粉，在促进经济发展，提高人们的生活水平方面发挥着重要的作用。本文简述了目前世界上稀土抛光粉的行业发展状况，总结了目前已有的各种类型和制造过程，并提出了今后稀土抛光粉的发展方向进行了展望。

简介：

简介：摘要

简介：

简介：摘要伴随着照明产业的迅猛发展，高质量的ＧａＡｓ抛光片需求量日益增大。ＬＥＤ是一种（电）注入式固体发光器件，它具有体积小、寿命长、耗电少和可靠性高等特性。广泛应用于指示灯、文字显示、大屏幕显示、交通信号、景观照明以及汽车照明等领域。而砷化镓材料是一种直接带隙半导体材料，其导带最低点与价带最高点在同一空间，这样电子和空穴就可以有效地再复合而发光。