简介：介绍了高压水除鳞系统两种不同形式除鳞喷射阀的工作原理及其结构特征,通过生产实践检验,经改型后的除鳞喷射阀以其独特的结构设计和驱动方式,满足了生产要求,取得了良好的使用效果。

简介：介绍了热轧带钢厂高压水除鳞系统存在的问题,针对问题所采取的改造措施及取得的效果。

简介：对高压水除鳞喷射阀阀杆与控制部分由分体式结构改为整体式，消除了原喷射阀杆经常断裂的缺陷，确保其稳定准确地开关，减少了故障停机时间，节省了检修费用并提高了带钢的表面质量。

简介：以鄂钢宽厚板厂高压水除鳞系统为例,分析了钢坯材质、加热工艺,特别是设备因素对高压水除鳞效果的影响,并从中寻求解决问题的方法。

简介：结合宽厚板厂高压水除鳞系统的实际情况,分析泄漏产生的原因和对系统正常运行带来的影响,并找出解决问题的方法。

简介：本文简要介绍了位于加热炉下游的高压水除鳞系统。在宽厚板生产过程中,高压水除鳞设备对钢板表面质量起重要作用,了解和掌握高压水除鳞系统的原理、功能,对于合理应用高压水除鳞系统、提高产品质量、增加企业经济效益具有十分重要的意义。

简介：宽厚板厂精轧机上的除鳞系统运行不稳定,多次出现爆管故障,严重制约了生产,改进后消除了爆管故障,设备可靠性得到提高。

简介：对304不锈钢2B板表面边鳞缺陷进行扫描电镜和能谱分析,并结合其整个生产工艺参数分析,得出铁素体当量高是导致边鳞缺陷发生的主要原因。根据上述原因提出了相应的改进建议。

简介：针对高压除鳞喷嘴堵塞问题分析,提出并逐步实施了清除腐蚀产物,改进控制腐蚀沉积的化学品方案,改进喷嘴结构和高压系统蓄能罐维护等措施,有效改善了喷嘴堵塞状态,满足了生产需要。

简介：本文简要介绍了高线厂高压水除鳞系统配置、技术参数、工作原理及其特点。该系统采用多组泵加变频装置直接供水。在实际应用过程中表明该除鳞系统具有节能、工作可靠、除鳞方式灵活、设备磨损小等优点。

简介：简要介绍了热轧宽厚板厂高压水除鳞系统概况,根据除鳞泵运行工况特性结合图表数据阐述了高压水除鳞系统节能方向及工程解决方法。并结合节能优化前后统计数据对比进行测算所取得的经济效益,说明对类似的高压水除鳞系统新建、使用、改造的借鉴价值。

简介：通过409L不锈钢板材表面线鳞缺陷检验、工艺状态及TiN形成热力学分析，认为导致409L板材表面线鳞缺陷原因主要是钛的夹杂物。钛的夹杂物来源于炼钢生产过程大量TiN的析出。解决这一问题的关键在于控制钢中的氮含量，在现有工艺装备条件下，重点是减少炼钢过程的增氮量。根据这一思路，制定相应措施，有效抑制了线鳞缺陷的批量发生。

简介：通过与中板厂现用设备的对比分析，介绍了4100轧机高压水除鳞设备的选型及技术上的进步和可能产生的作用。

简介：宽厚板厂高压水除鳞系统3号泵组的电动机供电系统由6kV的软起动器供电改造为由变频器供电,介绍了该变频器的特点,及使用后取得的效果。

简介：应用相机、金相显微镜和扫描电镜对Q345q热轧态钢板表面疤状缺陷进行检测分析。结果表明:疤状缺陷为非金属夹杂(渣),其成分为含有Si、Ti、Al、Ca、Mg的氧化物或硅酸盐、铝酸盐等,并在钢板表面形成凹坑。

简介：就不锈钢热轧板抛丸除鳞的不同工艺介质在实际生产中的应用作了广泛介绍,对不同介质在实际使用中的综合效果进行了对比,指出国内抛丸介质行业在制造、销售和使用过程中存在的问题,并对国内外不锈钢冷轧厂抛丸介质的使用趋势进行了介绍。

简介：对国外某鲕状赤铁矿进行了矿石性质研究,针对其特点,进行了焙烧磁选工艺和强磁选工艺的选矿试验,结果表明该鲕状赤铁矿易选,选矿指标好。对比而言。焙烧磁选工艺的选别指标优于强磁选工艺。

简介：刺状氧化锌是一种特殊形貌的晶须，本文介绍了近年来国内外对刺状氧化锌的性质、应用及制备方面的研究成果。

简介：鲕状赤铁矿嵌布粒度极细,且与菱铁矿、鲕绿泥石和含磷矿物共生或相互包裹,因此该种矿石的分选很困难,鲕状赤铁矿是目前国内外公认的最难选铁矿石类型之一。文章分析了鲕状赤铁矿利用存在的问题,探讨了鲕状赤铁矿的选矿工艺的研究进展,并提出了该类矿石的研究方向。

简介：以二水醋酸锌（Zn（CH3COO）2＆#183;2H2O）和氢氧化钠（NaOH）为主要原料，在十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）和十二烷基苯磺酸钠（SDBS）2种表面活性剂的协同作用下，170℃水热制备花状ZnO纳米粉末。通过X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）和荧光光谱（FTR）对该粉末进行表征，并研究CTAB与SDBS的配比以及反应时间对氧化锌形貌的影响。结果表明：2种表面活性剂按4：1的比例（物质的量比）配合使用，可充分发挥协同作用，在反应时间为1~5h条件下所得ZnO为六方相的花状结构，直径约2~3μm，这些微米花由厚度均一的纳米片组装而成。反应时间延长至10h时，花体开始塌陷，部分纳米片脱落。荧光光谱分析表明所得氧化锌微晶在紫外区和可见光区都有发射峰；紫外区发射峰的荧光强度随反应时间延长而降低，可见光区发射峰在反应时间为2h时荧光强度最大。