简介：通过控制温度和湿度,用垂直沉积法快速制备出了不同厚度的高质量二氧化硅和聚苯乙烯胶体晶体薄膜。用透射光谱和反射光谱对制备的样品的光学特性进行了表征,并与理论计算结果进行了对比分析;用衍射光谱中的布拉格衍射峰两侧的波纹测量了薄膜厚度,并对薄膜厚度对其光学特性的影响进行了分析,为用厚度调制胶体晶体薄膜光学特性和实际应用创造了条件。

简介：以TiCl_4的乙醇溶液作为前驱体,采用溶胶-凝胶法制备TiO_2溶胶,用浸渍-提拉法在载玻片表面制成了具有抗菌作用的TiO_2薄膜以及铁掺杂TiO_2薄膜,考察了原菌液浓度、镀膜次数以及铁掺杂量对薄膜对大肠杆菌的抗菌性能的影响。

简介：来自瑞典林雪平大学和加利福尼亚大学伯克利分校的研究者人员使用原子分辨扫描透射电子显微镜观察到了原子沿着线性缺陷在薄膜层之间的迁移。被称为位错．管扩散的现象早己在理论上被理解，但从未被直接观察到。研究人员在将由5nm厚的氮化铪（金属）和氮化钪（半导体）交替层组成的样品加热到950℃时发现了这一现象，并见证了铪扩散到下层。该团队重复这个循环，每次测量单个原子的运动，并确认测量值与先前使用间接方法和理论模型获得的值相匹配。

简介：由于钯及其合金对氢具有良好的扩散性及溶解性，钯基合金对氢表现出了极好的选择性。结合国内外研究的热点和各科研团体最新的研究成果对Pd-Ag薄膜的制备方法、国内外Pd-Ag合金薄膜的最新研究进展及Pd—Ag合金薄膜的应用与发展现状进行了详细的阐述。

简介：该文分别用直流、脉冲直流和微波等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)技术得到了Ti—si—N、Ti—B—N及Ti—Al—si—N纳米复合超硬薄膜,结合微观分析和宏观性能表征,给出了它们的纳米结构特征及其与力学性能的关系,基于工业运用背景,探索了纳米复合薄膜的热稳定性。

简介：用基于密度泛函理论的全势线性缀加平面波方法和模拟缺陷结构的超原胞的方法，通过计算比较ZnO、Zn15Y1O16Zn16O15、Zn15O16和Zn14Y1O16五个体系的自旋极化电子态密度，分析了O空位和Zn空位两种点缺陷对Y掺杂ZnO薄膜磁性的贡献，计算结果表明，氧化锌和钇掺杂氧化锌薄膜的磁性都来源于Zn空位周围被极化的O原子。

简介：在室温200℃的范围内，对磁控溅射制备NZnO薄膜性能进行了研究。实验中，以ZnO为阴极靶材，通过温度调节器对基片溅射温度进行控制，以实现对ZnO溅射薄膜特性的控制。系统真空度为3×10^4Pa，溅射气压为5．5Pa，溅射时N90min，通过XRD进行表征，用Jade5．0软件分析，结果表明，制备出ZnO薄膜表面平整、结构致密，具有高度c轴择优取向；在室温200℃的范围内，随着温度的升高，（002）衍射峰的位置趋向34．4°。

简介：采用溶胶-凝胶工艺，以Ni（Ac）2、La（NO3）3为前驱原料，以乙醇和乙二醇甲醚为溶剂，以丙烯酸为稳定剂，乙酰丙酮（AcAc）为化学修饰剂制备了感光性LNO溶胶。通过其溶胶的紫外和红外吸收光谱研究了感光性LNO溶胶的紫外感光机理，并运用溶胶-凝胶直接感光法制备出LNO薄膜的微细图形。

简介：在低温下制备了粒径小于10nm的ZnO纳米晶，用旋涂法制备ZnO纳米晶薄膜，XRD分析ZnO晶相是纤锌矿结构；SEM与AFM表明，纳米晶薄膜在300％退火后薄膜的厚度明显减小到130nm，表面粗糙度降低到3．27nm，粒径明显增大；紫外-可见吸收和透射比光谱表明，随着退火温度的增加，吸收边发生了红移，吸收肩更明显，薄膜具有高的透射率（75—85％）；薄膜方阻随温度增加而增大，300℃以下退火方阻增加很小（小于8．5Ω／sq），400℃以上退火方阻大幅增加（大于21．1Ω／sq），因此，ZnO纳米晶薄膜最优退火温度点为300℃。

简介：据有关媒体报道,美国东丽塑料公司最近研制出一种在工业和消费市场具有广泛用途的新型多功能共挤高透明度消光聚酯（PET）薄膜—LumirrorFA5。这种薄膜采用东丽公司专利的纳米技术加工而成，具有包括高强度和尺寸稳定性在内的优异热稳定性和出色的力学性能。

简介：美国威斯康星·麦迪逊大学开发出一项新技术，可用于制造一种新型玻璃，其强度和稳定性比普通玻璃更好。一般情况下，一块玻璃突然冷却，其中分子无法自由运动，从而形成无序结构。而新工艺可让分子进行排列成有序结构。

简介：采用反应射频磁控溅射方法，在玻璃基底上成功制备出了氮化铜（Cu3N）薄膜，并研究了溅射参数对Cu3N薄膜的结构和性能的影响，结果显示，随着溅射功率和氮气分压的增加，氮化铜薄膜的择优取向由（111）方向向（100）方向改变。随着基底温度从70℃增加到200℃，薄膜从Cu3N相变为cu相。紫外可见光谱、四探针电阻仪等测试表明，当溅射功率从80W逐渐增加到120W时，薄膜的光学能隙从1．85eV减小到1．41eV，电阻率从1．45×10^2Ω·cm增加到2．99×10^3Ω·cm。

简介：具有介电、铁电、压电等特性的铁电薄膜在动态随机存储器、移相器等功能器件上拥有广泛的应用前景，但其疲劳现象已成为应用的严重障碍，在衬底与铁电薄膜之间添加氧化物过渡层可以改善这种现象。综述了普通氧化物、钙钛矿型氧化物、超导氧化物等作为过渡层材料对铁电薄膜结构与性能的影响。

简介：近年来，光伏产业已成为全球各国经济中最热的一个环节。太阳能电池作为光伏系统的核心，随着产业投资高潮的兴起，自然也迎来了它的发展春天。据中投顾问最新发布的《2009-2012年中国太阳能光伏发电产业投资分析及前景预测报告》显示，目前全世界有超过130个国家投入普及应用太阳能电池的热潮中，其中有90多个国家正在大规模地进行太阳能电池的研制开发，积极生产各种相关的节能新产品。

简介：综述了电沉积技术制备纳米薄膜的研究，介绍了电沉积技术制备纳米膜的基本工艺，讨论了电沉积技术制备纳米薄膜的原理、分类、应用情况，阐述了目前存在的问题，并对今后采用电沉积技术制备纳米薄膜的研究方向提出了一些建议。

简介：采用多次旋涂法在玻璃衬底表面涂覆单壁碳纳米管（SWNT）悬浊液,形成均匀的SWNT薄膜,测量碳纳米管的发电特性,利用扫描电子显微镜（SEM）观测SWNT的分布情况,并用四探针电阻仪测量薄膜不同区域的方块电阻和薄膜的电流-电压（1-V）特性,结果表明,薄膜的I-V曲线线性度和重复度很高。不同浓度的氯化钠（NaCl）溶液以不同的流速流过SWNT薄膜表面,研究薄膜两端感应电势和电路中的电流变化情况。通过分析该变化情况,对SWNT发电机理作进一步阐释。

简介：介绍了Fe3Si的一些基本特性及Fe3Si薄膜的几种主要制备方法,重点介绍了分子束外延法中不同类型衬底、温度对Fe3Si薄膜形成的影响,并且分析了各种制备方法中的一些重要参数对薄膜结构及性质的影响。随着Fe3Si薄膜制备工艺的不断完善,Fe3Si薄膜将会成为一种性能优秀的自旋电子器件。

简介：用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）方法，在接近常压状态下，在氩气（Ar）和氢气（H2）的气氛中，以硅烷为源气体，在沉积区域加载脉冲负偏压对沉积过程进行调节，在基片上沉积得到具有荧光特性的含有Si纳米晶颗粒的SiOx薄膜，并在原气氛（Ar＋H2）中进行退火处理，SEM、TEM、FTIR、PL显示，退火后薄膜的网格结构被破坏，颗粒性更加明显，化学成分中Si—H减少，Si-O-Si增加，同时有少量si纳米晶粒析出，退火后的薄膜发光峰出现大幅蓝移，发光基团趋于单一，这与Si纳米晶粒的出现相对应。

简介：为了克服用Fe（NO3）3、Mg（NO3）2体系催化剂自由生长出的碳纳米管缠绕程度较严重，分布不均匀的缺点，采用丝网印刷催化剂的方法将其印刷在石英、硅和钛三种不同的基底上，结果表明，在石英基底上，用CVD法制备的碳纳米管分布较均匀，有效地克服了团聚现象，并用其作为场发射的阴极进行场发射实验，实验表明，该阴极开启场为2．2V／μm，在电场强度为3．0V／μm下，阳极电流为46．6uA，场发射电流稳定，波动小于5％。该阴极可望应用于场致发射显示器、液晶显示的背光源、照明光源等器件。

简介：采用真空蒸发法制备相同厚度的PbTe薄膜，再利用RF磁控溅射法在上面制备不同厚度的Ag反射膜，采用XRD、SEM、FTIR和四探针法分别对制备样品的物相组成、表面形貌、透射率和电阻率进行测试，结果显示，所制备的薄膜具有明显的〈100〉方向择优取向，呈多晶结构，随着反射膜厚度的增加，薄膜结晶性能先降低后增加；晶粒尺寸增加，表面粗糙程度先降低后增加；薄膜光学性能在一定膜厚范围内，随着反射膜厚度的增加透射率降低，超过一定膜厚时，透射率降为零；随着反射膜厚度的增加，电阻率呈先急剧降低后缓慢降低的趋势。