简介：基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的研究方向和研究结论,并展望CMP抛光垫技术的发展趋势。
简介：通过用波长为355nm的紫外激光对蓝宝石进行抛光，利用激光共聚焦扫描仪测量抛光后的表面粗糙度Ra，并结合抛光前后蓝宝石表面微观形貌特征观测，研究紫外激光脉冲能量、激光光束扫描速度、激光重复频率及激光光束入射角等工艺参数对蓝宝石表面粗糙度Ra的影响规律。
化学机械抛光中抛光垫技术专利文献综述
355nm紫外激光抛光工艺参数对蓝宝石表面粗糙度的影响
