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Design and optimization of BCCD in CMOS technology

简介：Thispaperoptimizestheburiedchannelcharge-coupleddevice(BCCD)structurefabricatedbycomplementarymetaloxidesemiconductor(CMOS)technology.TheoptimizedBCCDhasadvantagesoflownoise,highintegrationandhighimagequality.Thechargetransferprocessshowsthatinterfacetraps,weakfringingfieldsandpotentialwellbetweenadjacentgatesallcausethedecreaseofchargetransferefficiency(CTE).CTEandwellcapacityaresimulatedwithdifferentoperatingvoltagesandgapsizes.CTEcanachieve99.999%andthewellcapacityreachesupto25000electronsforthegapsizeof130nmandthemaximumoperatingvoltageof3V.
标签： CMOS工艺优化设计 BCCD 互补金属氧化物半导体电荷耦合装置热膨胀系数

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