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应用于叠层电容的电极箔腐蚀工艺探讨

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摘要摘要：本文主要介绍叠层电容概况，以及使用高厚度光箔通过电化学腐蚀获得高静电容量达到叠层电容在微型化、高容量化的目标，探讨后处理酸度、腐蚀级数对高厚度低压电极箔提高静电容量的影响。

DOI wjvmqkpkj7/7825802

作者陈宇峰

机构地区（肇庆市高要区华锋电子铝箔有限公司，526108）

出处《科技新时代》 2023年18期

关键词叠层电容高厚度高比容量后处理酸度腐蚀级数

分类 [建筑科学][建筑技术科学]

出版日期 2023年11月27日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）