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关于高性能光刻胶用色浆开发应用的技术研究

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摘要摘要：光刻胶是光刻工艺的核心，是PCB印刷电路板、LCD液晶显示和半导体等各应用行业的上游材料，在电路板、液晶显示和半导体行业中有着广泛的应用；本文对高性能光刻胶用色浆的开发应用进行技术研究，通过盐研磨技术创新，实现技术工艺路线创新。

DOI ojn7wrgx4r/6259713

作者赵磊

机构地区浙江纳美新材料股份有限公司，浙江省湖州市313000

出处《中国科技信息》 2022年8期

关键词光刻胶色浆技术创新

分类 [][]

出版日期 2022年07月28日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）