光敏聚酰亚胺的研究与应用进展

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摘要 摘要:光敏聚酰亚胺作为一种十分优质的高分子材料,其被广泛用于微电子领域的绝缘层与保护层。在非光敏聚酰亚胺应用中,图形加工实施十分困难,而光敏聚酰亚胺的图形光刻工艺十分容易,这就引起聚酰亚胺应用领域的广泛重视。本文主要对光敏聚酰亚胺的研究和应用进行分析。
出处 《科学与技术》 2021年8期
出版日期 2021年07月06日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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