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关于单晶炉热场温度梯度方面的研究

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摘要摘要在电子半导体器件制造中，单晶硅的氧浓度会严重影响单晶硅产品的性能，也是单晶硅生长过程中较难控制的环节。本文介绍了直拉单晶法中氧杂质的来源、对单晶硅的影响以及氧浓度的控制方法。

DOI ojnz2z11jr/2714637

作者李小东

机构地区 (新特能源股份有限公司新疆乌鲁木齐830011)

出处《电力设备》 2018年4期

关键词直拉单晶氧浓度电子半导体集成电路

分类 [电气工程][电力系统及自动化]

出版日期 2018年04月14日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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电力设备

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