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半导体元件清洗技术浅谈

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摘要随着社会的进步和科学技术的迅猛发展,对洗净技术的要求也越来越高.清洗方式多种多样,但最主要的是突出在喷射清洗和超声波清洗两大方面,应用于全国各行各业,并且也得到了明显进步.

DOI 6jr6r65pj5/2132639

作者朱文平;宫建国

机构地区不详

出处《洗净技术》 2003年10M期

关键词半导体元件清洗技术喷射超声波工作原理

分类 [电子电信][物理电子学]

出版日期 2003年07月19日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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