优化量子点纳米棒的新工艺

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摘要 位于美国罗利的北卡罗来纳州立大学的材料研究员调整了一项可以在一天内精确控制量子点纳米棒上的硅涂层生长的技术,是现有技术速度的21倍。除了节约时间外,其优势还在于使量子点更不易于失效,保持其优异的光学性能。
作者
机构地区 不详
出处 《现代材料动态》 2017年9期
出版日期 2017年09月19日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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